第120章 1nm光刻机首测成功，震撼全场！（2/2）

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众人凝神屏息，面露紧张之色。

苏云杉平静地发布指令：“开始上机前自检，执行S1全链路校验。”

唰——

终端界面瞬间刷新海量数据流，整机光源系统、七组超高精度反射镜组、双工件台、精密对焦系统、光路校准模块同步启动自检。

屏幕上，光路偏差、镜面面形误差、工件台定位参数、真空洁净度、激光光斑均匀性等上百项核心指标，逐条跳转为绿色合格状态。

苏云杉继续下达指令：“载入1n标准SRAM光刻版图，启动光源预激发，功率拉至320W稳态。”

嗡——

设备内部传出一阵极其低沉、稳定、细腻的机械共振声，没有剧烈震动，没有刺眼光亮，极致精密的工业设备，运转起来只有近乎细微的低频嗡鸣。

咚咚…咚咚…咚咚……

皇甫君心跳加速，紧盯腔体内部。

只见13.5n极紫外高能等离子光源瞬间起弧，经过多层高精度光学镜组，多次反射、收敛、匀化，一束极窄的EUV光束，沿着超长真空光路贯穿整机，精准投射至晶圆表面。

啧啧啧……

安若素心中暗叹：好科幻的样子…这玩意儿是我老公造出来的？他怕不是个外星人吧……

“双工件台切换，载入12英寸裸晶圆，执行对位校准。”苏云杉慢条斯理道。

机械结构在真空腔体内无声滑移，国产高精度双工件台以纳米级精度平稳位移，定位误差严格控制在±0.3n，晶圆边缘标记点与机台对位基准瞬间完成毫秒级贴合，套刻预偏差归零。

外行看热闹，内行看门道。

半导体制造研究院院长、光刻机研发中心主任以及教授等团队成员，神色越发震惊。

他们的目光死死锁定主控屏幕，无人敢出声打扰半分。

懂行的人都清楚，这一步对位校准，是1n制程光刻最核心、最考验技术的关键环节，分毫偏差都会导致整片晶圆报废。

苏云杉紧盯实时成像数据，沉声确认：“对位合格，启动单次曝光，剂量240J

2，聚焦阈值锁定0.8n。”

下一秒，EUV光束精准击穿光刻胶表层，在晶圆基底上完成极致精微的电路图形复刻。

整个曝光过程无声无息，无任何肉眼可见光影，却在微观尺度完成了千亿级晶体管电路的精准刻画。

单次曝光结束，机台自动完成移片、对焦、二次校准，开启多重曝光叠加工艺，完美适配1n制程的图形拼接需求。

三分钟后，首批测试晶圆曝光工序全部完成，设备自动卸载晶圆，送入后端在线检测工位。

缺陷检测机和线宽量测机瞬间启动扫描，海量微观成像数据快速刷新在大屏之上。

当最终检测结果跳出的那一刻，团队成员呼吸同时停滞。

大屏幕上清晰显示——

实测线宽：1.02n

套刻精度：1.18n

边缘粗糙度：≤0.45n

微观缺陷数：0

轰！！！

团队瞬间炸了！！！

“神呐！所有核心参数全部达到甚至超越国际商用1n制程标准！！”

“苏总研发的国产High NA EUV光刻机竟然成功了！！！”

“OMG！太不可思议了吧！！谁能掐我一下！我不是在做梦吧？！！”

不是……

成功了？

安若素和安无恙两位门外汉相视一眼，对于不懂的人来说，连是否成功都无法分辨。