第415章 参观基地2（2/2）

除了光刻胶，还有掩膜版。

那是芯片电路图的底片。

“这是EUV掩膜版。”

另一位工程师拿出一块黑色的板子，小心翼翼地放在测试台上。

“它不再是透明的玻璃，而是一块反射镜。上面覆盖了特殊的吸收层。”

“这种结构，能承受EUV光的高能轰击而不变形。这是我们按照您的‘无缺陷多层膜沉积’技术做出来的。”

“全球独一份！ASML之前还在用透射式的思路呢，当然现在他们已经不存在了！”

工程师看着林平安，眼神热切：“老板，您这脑子里到底还装了多少好东西？能不能一次性都拿出来？让我们也跟着您一起见证奇迹！”

……

从5层到16层。

林平安一层层地走过，一项项地验收。

光源、光学、机械、材料。

这光刻机的四大核心技术，在“流氓基地”这群疯狂科学家的努力下，在小白提供的“天书”指引下，已经全部变成了现实。

这不仅仅是几台机器，几瓶药水。

这是通往未来的钥匙。

是打破西方百年技术封锁的铁锤。

视察结束，林平安站在顶层的落地窗前，看着脚下的中关村。

“老板，这些技术……”老陈有些迟疑地问道，声音里带着一丝颤抖，“我们真的要公开申请专利吗？这可是能改变世界的秘密啊。”

在他看来，这些都是国之重器，应该藏起来，作为杀手锏。

“当然要申请。”

林平安转过身，嘴角勾起一抹自信的微笑。

“我要用专利，给全世界的半导体行业，上一把锁。”

“一把只有我有钥匙的锁。”

“以后，无论是ASML想复活，还是尼康想翻身，只要他们想造高端光刻机，就绕不开我的专利墙。”

“别担心，申请的也只是双工件台的运动逻辑，EUV光源的激发原理等等”这些大方向的专利。

听到老板这么说，老陈放心多了，他就怕老板一头热，什么核心都申请了。

林平安又不傻，他当然知道什么该申请，什么不该申请。

比如“液锡喷射的具体温度控制曲线”、“光刻胶的精确配方比例”、“镜头的最终抛光磨料成分”。这些东西坚决不写进专利，作为公司的最高商业机密进行物理隔离保护。

这样，即使对手看到了专利，知道原理，也造不出来，或者造出来的良率极低。