第361章 你滴侵权滴（1/2）

“什么完了？你说清楚！”马丁有些不悦。

汉斯终于把电脑连上了大屏幕。

屏幕上出现了一份专利文档的扫描件。

那是一份来自WIPO（世界知识产权组织）的PCT国际专利申请书。

【专利名称：一种基于流体局域约束的浸没式光刻头装置】

【摘要：本发明涉及一种光刻机浸没式系统，特别是利用高速旋转气帘与负压抽吸结构，实现液体在透镜与工件台之间的稳定约束……】

马丁仅仅扫了一眼摘要，手里的香槟酒杯就“啪”的一声掉在了地上，摔得粉碎。

“这……这是我们的设计！”马丁冲到屏幕前，死死盯着那张结构图，“这不可能！这是绝密！我们的原型机上周才定型！这图纸上的结构，跟我们的几乎一模一样！气帘角度、负压参数……这怎么可能？！”

“是我们内部出了间谍吗？！”埃里克咆哮道，“是谁把图纸泄露出去了？！”

“不，不是泄密……”汉斯绝望地闭上了眼睛，“如果是泄密还好办，我们可以起诉窃取商业机密。但最可怕的是……这不是我们的图纸。”

汉斯颤抖着手指，指向了文档右上角的那个日期。

【优先权日（Priority Date）：2003年9月20日】

【申请人：光刻未来科技有限公司（Lithography Future Tech Co., Ltd.）】

会议室里瞬间死一般的寂静。

所有人都知道这个日期的含义。

2003年9月，那是大半年前。

那个时候，ASML的浸没式项目还在进行流体力学模拟，连第一颗螺丝都还没拧上去。

而这个神秘的“光刻未来”，竟然在那个时候，就已经把整套方案构思完毕，并且申请了全球专利保护！

“这不可能……”马丁抱着头，瘫坐在地上，“那是上帝吗？怎么可能有人比我们还早半年想出这个结构？而且……而且还把所有的变种方案都堵死了！”

他翻看着后面的权利要求书（Cis）。

第一条：气帘约束。

第二条：负压回收。

第三条：双层流体循环。

第四条……

每一条，都精准地卡在了ASML原型机的咽喉上。

就像是一个预言家，提前站在了ASML研发道路的必经之口，挖了一个深坑，埋好了地雷，然后静静地等着他们跳进来。

“能……能绕开吗？”埃里克声音干涩地问，“马丁，你是CTO，你一定有办法改改结构，绕开这个专利对不对？”

马丁抬起头，眼神空洞：“怎么绕？要在高速运动的工件台上把水锁住，除了用气帘和负压，难道用爱吗？这是物理学的最优解！只要我们要造浸没式光刻机，就必须用这个结构！只要用这个结构，就是侵权！”

侵权。

这两个字像大山一样压了下来。

如果是普通专利也就罢了，赔点钱。

但这可是核心基础专利（t）。没有授权，他们的机器就是非法的。一台都不能卖！

那三十亿美金的订单……那是三十亿美金的毒药！

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