第399章 谍影重重（4）（1/2）

“对了，冰刻机。”

钟一鸣话锋一转，手指无意识地敲击着桌面，目光投向陈山，眼神深处掠过一丝难以掩饰的忌惮与急迫：“哥，你在燕京，消息灵通。天河工业集团那个‘冰芯计划’……具体进展到什么程度了？外界传得神乎其神，说他们在冰刻技术上取得了颠覆性突破，甚至接近量产门槛。这到底……有几分真？”

冰刻机，这三个字在当前的国际高科技博弈中，分量丝毫不亚于天河控股的电池帝国。

它代表着另一种可能——一种绕开传统硅基光刻技术封锁、在下一代芯片制造乃至更广阔的微纳制造领域掌握话语权的可能。

陈山的神色也变得严肃起来，他放下酒杯，身体微微前倾，声音压得更低，确保每一个字都清晰无误：“我通过几个非常可靠的渠道交叉验证过，消息基本属实，但情况比外界想象的更复杂，也更……惊人。”

他稍作停顿，整理思绪：“先说结论：天河工业的冰刻机项目，代号‘玄冰’，并非空穴来风，已经完成了原理验证和大部分工程样机开发。根据我得到的内部评估报告，其大部分核心构件，比如超精密运动平台、低温控制系统、真空腔体等，已经具备了小批量试产的能力，供应链也基本搭建完成。”

“但是，”陈山话锋一转，指出了关键瓶颈，“有两个最核心的子系统，目前仍是最大的技术挑战和量产障碍。一个是‘冰胶形成与调控设备’。”

“他们需要能在晶圆表面精准、均匀、稳定地生成和维持那层作为‘刻蚀掩膜’的冰薄膜，温度控制要达到毫开尔文级别，并且要能应对不同材料和工艺需求。”

“这一步的稳定性和一致性，直接决定了冰刻的良品率。另一个是 *电子束/离子束曝光与修正系统’。”

“虽然冰刻避开了极紫外光源的难题，但用来‘雕刻’冰胶图案的电子束或离子束，其精度、速度、以及多束并行曝光能力，同样达到了物理极限，相关的电源、控制软件、校正算法都是世界级难题。”

“目前，天河在这两个关键设备上，还处于‘实验室突破，工程化爬坡’的阶段，距离稳定、可靠、低成本的大规模量产，确实还有一段不短的距离需要攻克。”

钟一鸣和陈阳听得极为专注，这些都是最核心的技术情报。

然而，陈山接下来的话，让他们心中警铃大作：“不过，你们千万别因此低估了‘玄冰’计划的威胁性和领先性。在冰刻工艺的另外几个关键环节——‘图形转移’和‘后续清洗’技术上，根据有限的对比测试数据，天河的技术方案，理论上已经比阿麦目前最先进的EUV光刻机所采用的对应工艺，整整领先了一代！”

“领先一代？！”陈阳忍不住低呼出声，眉头紧紧锁起。阿麦是光刻机领域绝对的王者，其技术代差是维持整个西方半导体霸权的重要基石之一。

领先一代是什么概念？那意味着天河可能已经掌握了未来芯片制造的某种“捷径”或“更优解”。

“是的，理论上是这样。”陈山肯定地点头，“冰刻技术本身在原理上具有一些独特优势，比如几乎无损伤的低温过程、对新型材料和复杂三维结构的更好兼容性。”

“天河在这些优势领域深耕多年，他们的‘定向低温蚀刻’和‘超临界二氧化碳清洗’技术，据说在精度、选择性和对底层材料的保护方面，表现出了惊人的性能。”

“这让他们在特定的工艺节点上，理论上能够实现1纳米到28纳米全系列芯片的冰刻制造。”

“ 而且，我收到风声，他们正在与花厂、汉芯国际等国内顶尖的设计和制造企业深度合作，组建联合攻关团队，目标直指 5纳米冰刻工艺的验证流片。”

钟一鸣倒吸一口凉气。芯片制造从来都是一个极其漫长和复杂的生态系统工程，从一粒沙子到一颗可用的芯片，环环相扣：

一是晶圆制备：将沙子提纯成半导体级硅，再拉制成晶圆。

这一领域，国内已占据全球约37%的市场份额，其中天河控股旗下的天河新材料公司独占13%，尤其在21英寸大尺寸硅片的制备和加工上，技术水平和产能都已达到世界领先，是名副其实的行业龙头之一。

制造设备（光刻/冰刻机）：这是将电路图“印刷”到晶圆上的核心机器。

目前全球高端光刻机市场被阿麦绝对垄断，其最新的EUV光刻机单台售价超过20亿美元，加上配套和服务，利润惊人。

如果天河的冰刻机真的成功量产并验证，全球高端芯片制造设备的格局将被彻底打破，天河工业将成为唯一的挑战者和并列者。

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