第395章 半导体所的合作（2/2）

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“小于100赫兹。”林远说。

方明华皱了皱眉：“这是国外商用产品的水平。国内民用的APD，暗计数率都在千赫兹以上。你们要降低一个数量级，这意味着什么知道吗？”

“意味着材料纯度、工艺控制、器件结构，全部要重新来过。”

“说得轻巧。”方明华站起来，走到柜子前面，拉开一个抽屉，里面满满当当全是各种封装的二极管。“我做APD做了十二年。从最初的硅基PIN管，到现在的硅雪崩管，每一步都是摸着石头过河。国内的半导体工艺水平，跟国外差着至少十年。你们要的‘专用器件’，不是不能做，但代价会非常大。”

“什么代价？”张海洋问。

“首先，经费。要重新设计版图，重新流片，一次流片就是几万块。而且不一定一次成功，可能要反复多次。其次，时间。从设计到出样片，最快也要半年。如果中间出问题，一年两年都有可能。最后——”他顿了一下，“成功率。这个东西，国内没人做过。我们虽然有工艺线，但能不能做出来，我心里没底。”

屋子里安静了下来。

林远站在那里，看着抽屉里那些密密麻麻的二极管，脑子里飞速地转着。他想了一会儿，然后说：“方老师，我问一个问题。”

“问。”

“如果只改器件结构，不改材料体系呢？还是用现有的硅基工艺，但在结构设计上做优化，专门针对单光子探测的需求来设计。这样虽然性能可能比不上国外的专用器件，但比民用的会好很多，而且工艺实现的难度小一些。”

方明华愣了一下。他重新坐回椅子上，拿起桌上的笔，在纸上画了起来。

“你的意思是……沿用现有的硅材料，不追求新材料体系，但在倍增区的设计上做文章？”

“对。”林远走过去，指着方明华画的草图，“比如说，倍增区的掺杂浓度和厚度，能不能针对单光子探测的工作模式来优化？现有的民用器件是为线性模式设计的，工作在盖革模式时，噪声会很大。如果我们从一开始就按照盖革模式的需求来设计，哪怕材料纯度不变，暗计数率也应该能降下来。”

方明华手里的笔停住了。他盯着纸上那张草图，看了很久。

“这个思路……倒是有可能。”他慢慢地说，“我之前一直想着要追求国外的水平，从材料到工艺全面升级，结果把自己吓住了。但如果只改结构设计，不碰材料体系，难度确实小很多。”

他抬起头，看着林远，眼神里多了几分认真：“你这个思路，有点意思。”