第255章 光刻机（上）（1/2）

“什么办法？”高老板问。

“大老霉要收拾小本子，无非就是小本子家的半导体产业发展得太快，威胁到了大老霉。”苏欣笑道：“那咱们保持落后不就行了。”

“还用得着保持？”

高老板道：“就算咱们现在开始搞，也得落后人家一二十年。”

“往后的差距会越来越大。”

廖教授又叹了口气道：“摩尔定律你们听说过吧？”

“嗯。”

高老板点点头：“戈登·摩尔是牙膏厂的联合创始人，他在65年提出在集成电路上的晶体管数量每年都会翻倍，并且元器件的成本几乎与元器件数量成反比。75年他把这个翻倍时间修整为每两年。”

“虽然摩尔自己说他只是做了个野心勃勃的推测，但是他的推测早就被事实验证是正确的。”廖教授道：“这也就意味着半导体行业迭代速度特别快，咱们一步慢步步慢，想追赶会越来越困难。”

“我还是那句话。”

高老板雄心勃勃道：“只要搞，什么时候都不晚。并且咱们不但要搞芯片，还要从根儿上搞，搞出来半导体的全产业链。”

“你的意思是要从光刻机搞起吗？”廖教授问。

“是啊。”

高老板道：“要想不受制于人，就得从头干起。怎么，难道廖教授觉得光刻机这种高科技设备制造难度太高，咱们搞不出来？”

“搞不出来？笑话！”

廖教授哼了一声，道：“无论设备多么精密复杂，终归都是人造出来的。外国人能造的设备，咱们凭什么造不出来？都是两个肩膀扛着一个脑袋，咱们华夏人比他们差什么？咱们甚至比他们还聪明。”

“因为光刻机的制造技术太复杂，难度太高，浪城统筹委员会早就把光刻机列为尖端技术产品，对华实行封锁禁运。”

“但一切困难都难不倒咱们勤劳智慧华夏儿女的啊。”

“66年109厂与魔都光学仪器厂协作，研制成功我国第一台65型接触式光刻机，由魔都无线电专用设备厂进行生产并向全国推广。”

“77年，在苏省吴县召开了光刻机技术座谈会，四十二个单位67名代表出席了会议。会上指出，改进光刻设备、光刻工艺是目前大规模集成电路会战和提高电路质量的一个重要方面。”

“为了在半导体器件和集成电路方面尽快赶超世界水平，代表建议组建全国光刻机技术协作攻关组织。”

“78年中科院半导体所开始研制JK-1型半自动接近式光刻机。”

“80年JK-1型接近式光刻机完成所级鉴定。”

“81年完成第二阶段工艺试验，并进行模拟4K和16K动态随机贮器器件的工艺考核试验。在同一年，魔都光学机械厂的研制的JKG—3型光刻机通过鉴定与设计定型。”

“82年10月，109厂、冰城量具刃具厂、阿城继电器厂共同研制的KHA75-1型半自动接近接触式光刻机获得一机部科技工作一等奖，该机器在某些重要指标上已达到本子PLA500-F型水平。”

“85年，中科院魔都光学精密机械研究所研制的扫描式投影光刻机通过鉴定，为我国大规模集成电路专用设备填补了一项空白。”

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