第477章 新光刻机 上市？（1/2）

次日清晨，楚千澜驱车抵达深蓝半导体。

二号生产楼的45纳米光刻设备正有条不紊地运转，淡紫色的极紫外光束在晶圆表面勾勒出细密纹路，而隔壁的28纳米光刻产线则被安保守住了出入口，空气中弥漫着紧张而肃穆的气息。

王世杰、张北光早已等候在观察窗前，脸上难掩兴奋与忐忑。

看到楚千澜走来，两人立刻迎了上去。

“楚总，设备已完成最后校准，光源功率稳定在±0.2%，工作台定位精度达±0.001微米，各项参数均优于设计标准。”张北光递上数据平板，声音带着抑制不住的颤抖。

楚千澜目光扫过屏幕上跳动的实时数据，微微颔首：“开始流片吧，重点监测良率与稳定性。”

王世杰抬手示意，技术人员立即按下启动按钮。28纳米光刻设备发出低沉的嗡鸣，传送臂精准抓取硅晶圆，缓缓送入预处理模块。

极紫外光源投射出比45纳米设备更细密的光束，在晶圆表面刻画出复杂的电路纹路，每一道线条都锐利如刀，误差控制在纳米级。

观察窗前，众人屏息凝视。屏幕上的流片进度条缓慢推进，涂胶、曝光、显影、蚀刻等工序一气呵成。当第一片晶圆完成流片，被送入检测设备时，整个车间鸦雀无声。

“线宽均匀度误差±0.002微米，符合设计标准！”检测工程师高声汇报，声音打破了死寂，“关键电路无桥连、无锯齿，光刻质量完全达标！”

王世杰长舒一口气，脸上露出欣慰的笑容：“按这个进度，首批100片晶圆将在两小时内完成生产，良率初步预估能稳定在92%以上。”

楚千澜凝视着屏幕上平滑的参数曲线，眸色中闪过一丝赞许：“92%的良率，超出预期。后续28纳米制程的芯片，要转移到这条新产线上生产。”

虽说45纳米光刻机也能生产28纳米芯片，但通过多重曝光技术生产芯片，需要增加多道工序，良率自然会降低。

王世杰眼中闪过炽热的光芒，重重点头：“明白楚总！我们已经提前规划了产能分配，28纳米产线满负荷运转时，月产能可达3万片晶圆，完全能满足繁星科技的需求。”

张北光补充道：“这条产线的核心部件国产化率达到96%，只有极个别高精度传感器来自海外，而且我们已经启动了国产替代研发，预计一年内就能实现完全自主供应。”

楚千澜微微颔首，目光始终锁定在屏幕上的流片数据：“不能松懈，但那些国外没有禁售的元件也不用着急。

28纳米光刻设备是关键节点，海外巨头完成研发的时间也不长。我们的成功，代表着深蓝半导体彻底跻身于国际先进行列。下一步，就是研发出20纳米的光刻机，彻底脱颖而出。”

楚千澜的话音落下，车间内的技术人员们眼中皆燃起炽热的光芒。

从45纳米到28纳米，深蓝半导体用短短一年时间完成了国际巨头数年才能走完的迭代之路，这份速度与实力，足以让每一个参与者自豪。

张北光攥着数据平板的指尖微微泛白，眼中燃起更盛的斗志：“楚总放心！我们正在定制20纳米光刻设备的研发方案。通过女娲系统的推演，已经有了研发方向。”

楚千澜微微颔首，目光扫过车间内忙碌的技术团队。

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